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關(guān)于半導(dǎo)體鍍膜工藝中,我們現(xiàn)在要的是InSb,看過(guò)一篇國(guó)外的資料有過(guò),是個(gè)日本人寫(xiě)的,他用的三溫區(qū)法

應(yīng)該是4-20mA和0-20mA吧?

兄弟不才,能否推薦這方面的相關(guān)資料?

可能吧,這樣做出來(lái)也不好看

我現(xiàn)找到辦法了,一種是在protel里面用添加文字的按鈕T,在元器件的R下面添加下標(biāo),并且要把字體改小字號(hào),固定柵格去掉,這樣會(huì)漂亮些,另一種辦法在畫(huà)圖板里,直接用文字按鈕A,適當(dāng)改變字體,改變下表位置即可

謝謝兄弟指教,但是我要的是大寫(xiě)字母下標(biāo),可否有辦法?

兄弟也是聰明人,這個(gè)方法對(duì)數(shù)字來(lái)說(shuō)的確有效呀

對(duì),可能protel不承認(rèn)下標(biāo)這種格式,要不就只能是才疏學(xué)淺了

您能否告訴我怎么把這個(gè)106變成R的下標(biāo)?

兄弟們,我要做的電路圖,要求是這樣子的,我也看到別的文章里出現(xiàn)過(guò)這樣的表示方法,但是自己不會(huì)呀,而且屬性改不了的,我都試著往上貼過(guò),也不行,protel好像是不承認(rèn)這樣使用.