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電源技術綜合區(qū)
真空鍍膜工藝中的三溫區(qū)法是怎么回事
真空鍍膜工藝中的三溫區(qū)法是怎么回事
諸位,有沒有人知道真空鍍膜工藝中的三溫區(qū)法是怎么回事?
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現(xiàn)在還沒有回復呢,說說你的想法
zhaocsq
LV.5
2
2006-04-06 11:30
真空鍍膜工藝簡單,要求真空度高,要有10的負次方才能鍍的牢固有光澤.沒聽說過三溫區(qū).主要是電極的低壓大電流產生的高溫熔化鋁絲.別無高溫.外殼最好用水冷卻.
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vitality
LV.3
3
2006-04-17 11:07
@zhaocsq
真空鍍膜工藝簡單,要求真空度高,要有10的負次方才能鍍的牢固有光澤.沒聽說過三溫區(qū).主要是電極的低壓大電流產生的高溫熔化鋁絲.別無高溫.外殼最好用水冷卻.
關于半導體鍍膜工藝中,我們現(xiàn)在要的是InSb,看過一篇國外的資料有過,是個日本人寫的,他用的三溫區(qū)法
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yrxinxin
LV.6
4
2006-04-17 23:37
你要鍍什么?鍍眼鏡片我倒是會,用的是氧化鋯和氟化鎂.400度高溫,真空度好像是1.3x10的負10次方吧.,用鎢片和鉬片盛放氧化鋯和氟化鎂.通12V低壓電流可調的300A電流源,使化學材料蒸發(fā)鍍到鏡面上.要求鏡面極其干凈.
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yrxinxin
LV.6
5
2006-04-17 23:38
給大家參考一下.
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zhangyh
LV.5
6
2006-04-18 08:12
@yrxinxin
給大家參考一下.
請教:鍍膜時有一個“轟擊”的工藝是干嗎的?好象是在抽完真空后的一項工藝,當轟擊時能看到內部有輝光的感覺.
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ll1234
LV.1
7
2007-02-27 11:02
@yrxinxin
你要鍍什么?鍍眼鏡片我倒是會,用的是氧化鋯和氟化鎂.400度高溫,真空度好像是1.3x10的負10次方吧.,用鎢片和鉬片盛放氧化鋯和氟化鎂.通12V低壓電流可調的300A電流源,使化學材料蒸發(fā)鍍到鏡面上.要求鏡面極其干凈.
您好,有急事向您請教,希望能聯(lián)系上您,謝謝,我的電話13564516979,李生
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yrxinxin
LV.6
8
2007-02-27 17:58
@ll1234
您好,有急事向您請教,希望能聯(lián)系上您,謝謝,我的電話13564516979,李生
聯(lián)系哪一個?
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