我們目前用的是非隔離式MOSFET 內(nèi)建(4/6A)的架構(gòu) 以Floating GND 架構(gòu)為主, 測(cè)過(guò)O2及Leadtrend 的同樣架構(gòu)(MOSFET 包在IC), EMI 都不是很好解. 需加許多EMI零件.
請(qǐng)建議 非隔離+PFC 以floating GND 架構(gòu)的IC ? 并內(nèi)建EMI 對(duì)策, 以便減少零件數(shù)量.
我們目前用的是非隔離式MOSFET 內(nèi)建(4/6A)的架構(gòu) 以Floating GND 架構(gòu)為主, 測(cè)過(guò)O2及Leadtrend 的同樣架構(gòu)(MOSFET 包在IC), EMI 都不是很好解. 需加許多EMI零件.
請(qǐng)建議 非隔離+PFC 以floating GND 架構(gòu)的IC ? 并內(nèi)建EMI 對(duì)策, 以便減少零件數(shù)量.